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納米壓印系統(tǒng)-光刻機 介紹了一個臺式、獨立的納米壓印平臺。該平臺提供了一個帶有微型定位夾具的機械平臺，用于安裝納米壓印室、紫外線固化

硅穿孔工藝設備-光刻機 晶圓和晶圓之間制作垂直導通，實現(xiàn)芯片之間互連的新技術。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度大，芯片之間的互連線短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，使目前電子封裝技術中引人注目的新技術。

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顯影機-勻膠機 顯影機 /濕法刻蝕機德國品質(zhì)（配有防污染內(nèi)襯，標配兩個大小吸盤，性能優(yōu)于美國同類品牌） 高精度，高可靠性，耐腐蝕，來源德國，多程序控制。

光刻機/紫外曝光機 該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發(fā)力量和設備生產(chǎn)能力；并且其設備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術、精妙的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

勻膠機其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關。