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一、光刻機(lithography)又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。二、組成步驟：利用模版去除晶圓表面的保護膜、將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉后形成電路、用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質、模版和晶圓大小一樣，模版不動、模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機聚焦部分移動。三、曝光機是生產大規(guī)模集成電路的核心設備，制造和維護需要高度的光學和電子工業(yè)基礎，世界上只...

一、應用原理：(1)該儀器利用發(fā)送聲波脈沖，測量接收端的時間或頻率(多普勒變換)差別來計算風速和風向的測量傳感器或測量儀器。(2)是超聲波檢測技術在氣體介質中的一種應用它是利用超聲波在空氣中傳播速度受空氣流動(風)的影響來測量風速的。屬于無慣性測量，故能準確測出自然風中陣風脈動的高頻成分，結合現(xiàn)代計算機技術，可在更高層次上揭示自然風的特性對于提高抗風減災能力和風資源的合理利用有重大意義。(3)具有重量輕、沒有任何移動部件、堅固耐用的特點，而且不需維護和現(xiàn)場校準，能同時輸出風速...

激光直寫無掩膜光刻機是一種利用圖形化DMD微鏡矩陣控制的直寫曝光光刻設備。該設備可以在無需曝光掩膜版的條件下，根據(jù)用戶研究需要，直接在光刻膠樣品表面上照射得到含有3D灰度信息的曝光圖案，為微流控、MEMS、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。此外，它還具備結構緊湊（70cm×70cm×70cm）、高直寫速度，高分辨率（XY~0.6μm）的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。目前在國內擁有包括清華大學、北京大學、中國科技大學、南京大學等100...

一、光刻機是掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。二、分類：手動：指的是對準的調節(jié)方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；半自動：指的是對準可以通過電動軸根據(jù)CCD的進行定位調諧；自動：指的是從基板的上載下載，曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。三、技術指標：(1)支持基片的尺寸范圍，分辨率、對...

固體氣溶膠發(fā)生器是一種用于各種實驗中的科學實驗設備，這類氣溶膠發(fā)生器，都采用特殊的噴油嘴設計。噴頭噴霧能產生次微米的多種直徑的油霧懸浮粒子，這類實驗設備經常與光度計被用于高效的空氣過濾系統(tǒng)中完整性測試或查找泄露源測試。任何一個儀器設備在使用的時候都需要格外細致，不僅要在用后做好相關的維護保養(yǎng)工作，使用前的全面了解也是非常有必要的，那么我們在使用固體氣溶膠發(fā)生器的前后都需要做點什么工作呢？一、使用前的檢驗查看：1、檢查電源線。如果發(fā)現(xiàn)電源線已老化并且插頭已損壞，請在必要時更換新...

氣溶膠發(fā)生器具有準確、快速、能提供高濃度的單分散性氣溶膠的特點，它可以產生高度均勻分散的固體或液體粒子(可用于熒光或放射性標記)，粒數(shù)濃度可以超過1000000/cm3，它可以產生球形的幾乎電中性的氣溶膠粒子，粒徑范圍為0.5～8μm，顆粒尺寸和濃度可以很容易人為控制。它具有緊湊、輕質和易維護等特點，它可以滿足任何要求產生高濃度均勻分散氣溶膠的應用，這包括人體和動物暴露研究；濾料效率測試；顆粒物篩分儀器的評價和校準；煙氣探測器的性能分析；為風洞產生粒子；為激光多普勒速度計產生...