真空快速退火爐RTP-材料設(shè)備

3英寸、4英寸、6英寸、8英寸真空快速退火爐系統(tǒng)。

應(yīng)用：
RTA（快速熱退火）； RTO（快速熱氧化）；注入退火；擴(kuò)散；化合物半導(dǎo)體退火；滲氮；滲硅； 結(jié)晶化與致密化；

真空快速退火爐RTP-材料設(shè)備

特點(diǎn)：
適用于2英寸~8英寸晶圓，高可靠性和低擁有成本。不銹鋼冷壁腔體技術(shù)； 高工藝重復(fù)性，超清潔無污染環(huán)境、 高冷卻速率低記憶效果。 可實(shí)現(xiàn)高達(dá)10-6 mbar的高真空環(huán)境。 高溫計(jì)和熱電偶控制，高速數(shù)字PID溫度控制器，邊緣高溫計(jì)視點(diǎn)保障了化合物半導(dǎo)體和小樣品的基座的加強(qiáng)溫度控制。

使用特點(diǎn)：
溫度范圍：RT to 1500°C；
斜坡速率：最高250°C/s；
氣體混合功能：使用質(zhì)量流量控制器控制；
真空范圍：大氣壓～10-6 Torr，可配置分子泵；
本系統(tǒng)提供全電腦控制，應(yīng)用控制軟件兼容window系統(tǒng)。