系統(tǒng)主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。主要性能指標：極限壓力≤2.0x10-5Pa；基片結(jié)構(gòu)設(shè)計6個工位；樣品尺寸:Ф30mm，可放置6片；運動方式：0-360°；加熱:最高溫度600°C；靶材尺寸Φ60mm,各靶射頻濺射與直流濺射兼容,靶與樣品距離40-80mm可調(diào),永磁靶5套。質(zhì)量流量控制器2路.計算機控制樣品轉(zhuǎn)動、擋板開關(guān)、靶位確認等。

　　多功能磁控濺射儀特點：

　　1、此系統(tǒng)包含大多數(shù)的真空薄膜鍍層技術(shù):熱蒸發(fā)(boatevaporationorcrucible)，電子束蒸發(fā)，濺射沉積。

　　2、這樣我們在一臺設(shè)備上可以靈活運用多種膜生長技術(shù),針對各種不同大小和形狀的樣品,非常方便切換沉積模式。

　　3、腔體的開放式設(shè)計,使得樣品大小從幾毫米到250毫米均可鍍層。樣品夾具可以輕松固定多個樣品并同時鍍膜。此系統(tǒng)真空腔內(nèi)連接一個300mm寬的快速通道門,可以非常方便和快速地切換樣品和靶源。這對于薄膜制備研究機構(gòu),面對多種材料增加或改變沉積方式,轉(zhuǎn)換起來非常方便,并沒有任何空間限制。

　　4、此系統(tǒng)為模塊式設(shè)計,可以針對用戶的具體應(yīng)用來訂制設(shè)計結(jié)構(gòu)。