激光直寫光刻機(jī)是桌面型高分辨率激光光刻系統(tǒng)，它通過(guò)固定連續(xù)的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結(jié)構(gòu)，直寫面積高達(dá)4英寸，特征尺寸（寬度）可達(dá)1微米。

    激光直寫光刻機(jī)提供豎直和掃描直寫模式，確保直接軌跡偏離小于100nm，具有電動(dòng)光學(xué)聚焦系統(tǒng)，提供快速的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統(tǒng)裝備到襯底室供客戶選配，增強(qiáng)清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。激光直寫不僅具有無(wú)掩模板直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高書寫速度和低成本的特點(diǎn)。

    激光直寫多個(gè)藍(lán)光激光頭可以在電腦控制下進(jìn)行平行工作對(duì)基片上無(wú)需高分辨率的部分進(jìn)行高速書寫曝光，之后自動(dòng)切換高分辨激光，并對(duì)需要高分辨的細(xì)節(jié)進(jìn)行加工。這樣的設(shè)計(jì)在加工速度和分辨率之間取得了好的平衡，并通過(guò)軟件改變曝光圖案設(shè)計(jì)完整保證了其靈活性。激光直寫內(nèi)置自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)通過(guò)調(diào)節(jié)基片臺(tái)在Z方向的位置，對(duì)基片上的紅色激光斑進(jìn)行自動(dòng)對(duì)焦。只需單擊軟件上的對(duì)焦鍵就能完成對(duì)新放入的基片對(duì)焦。

    激光直寫與一些其他自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)對(duì)基片小尺寸有要求不同，自動(dòng)對(duì)焦可以用到極小的樣品上，適用于對(duì)單個(gè)壓模的書寫。對(duì)于表面不平的基片，可以在曝光之前對(duì)其表面測(cè)繪，之后進(jìn)行曝光的同時(shí)中可以自動(dòng)校正對(duì)焦。確切的書寫速度取決于曝光圖案，大部分研發(fā)用圖案是由大面積區(qū)域（線、帶、塊）和少量的細(xì)小尺寸結(jié)構(gòu)組成的。

    激光直寫通過(guò)自動(dòng)結(jié)合高速平行書寫和高分辨書寫，可以的得到180mm2/min的有效書寫速度，對(duì)于需要進(jìn)行大面積細(xì)小結(jié)構(gòu)書寫的基片，曝光時(shí)間會(huì)相應(yīng)增長(zhǎng)。激光直寫技術(shù)是一種近年來(lái)應(yīng)用廣泛的超精密加工技術(shù)，該技術(shù)是一種利用強(qiáng)度可變的激光束，在基片表面實(shí)施有規(guī)則的高精度掃描。在掃描過(guò)程中，光刻基片隨載物平臺(tái)而運(yùn)動(dòng)。因此影響光刻元件的質(zhì)量取決于載物平臺(tái)的定位精度以及運(yùn)動(dòng)的穩(wěn)定性，影響光刻元件的快速性取決于系統(tǒng)的響應(yīng)度。